Protection du rendement à 20 nm
À 20 nm, la contamination n’impacte pas uniquement les performances — elle détermine le rendement.
À cette échelle, les particules sont souvent indétectables avec les méthodes de surveillance traditionnelles, mais elles peuvent dégrader silencieusement l’intégrité des procédés bien avant que des défauts ne deviennent visibles.
Pour opérer en toute confiance, il ne suffit pas d’être conforme.
Vous avez besoin d’une visibilité complète — et d’un contrôle total — sur l’ensemble de votre procédé.
Pourquoi la maîtrise de la contamination à 20 nm est essentielle
Aux nœuds technologiques avancés, le risque de contamination n’est plus isolé : il concerne chaque étape de votre procédé :
- Eau ultrapure (UPW)
Essentielle au nettoyage des wafers, mais vulnérable à la contamination par des particules subvisibles. - Produits chimiques de procédé
Hautement filtrés, mais pouvant néanmoins introduire des particules susceptibles de limiter le rendement. - Systèmes de distribution et points d’utilisation
Là où une contamination peut s’introduire sans être détectée.
À 20 nm, même des traces de particules peuvent perturber les performances des dispositifs et compromettre le rendement.
Solutions de comptage des particules en milieu liquide jusqu’à 20 nm
Détection des particules à 20 nm
Les compteurs de particules conventionnels n’offrent pas la sensibilité requise pour les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs.
Grâce à une sensibilité de détection des particules jusqu’à 20 nm, les solutions PMS vous permettent de :
- Détecter la contamination plus tôt, avant qu’elle n’impacte le rendement
- Identifier les particules limitant le rendement que d’autres systèmes ne peuvent pas mesurer
- Améliorer la maîtrise des procédés grâce à des données plus précises
Ces capacités favorisent une maîtrise proactive de la contamination, plutôt qu’une résolution réactive des problèmes.
Conçues pour les applications avancées de fabrication de semi-conducteurs
Optimisées pour :
- Les sites de fabrication de semi-conducteurs
- Les systèmes de distribution et de conditionnement de produits chimiques
- Les systèmes d’eau ultrapure (UPW)
- Les procédés de nettoyage des wafers
Développées pour accompagner :
- Les ingénieurs procédés
- Les ingénieurs rendement
- Les spécialistes de la maîtrise de la contamination